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台积电2nm工艺制程领先全球，新竹宝山工厂试生产良品率超预期
在2nm工艺制程的决战上，台积电又一次跑到了前面。 12月6日，据中国台湾媒体《经济日报》报道，台积电已在新竹县的宝山工厂完成2nm制程晶圆的试生产工作。 据悉，此...
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光刻机技术不断突破，ASML High-NA EUV 光刻机引领芯片制造新时代
光刻机一直是半导体领域的热门话题。 从早期的深紫外（DUV）光刻机起步，其稳定可靠的性能为半导体产业的发展奠定了坚实基础；到后来的极紫外（EUV）光刻机以其独特的极...
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